一種在線刻寫具有高旁瓣抑制比光柵的裝置和方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010071566.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111208603A 公開(kāi)（公告）日 2021-07-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN111208603A 申請(qǐng)公布日 2021-07-09
分類號(hào) G02B6/02 分類 光學(xué);
發(fā)明人 余海湖;鄒慧茹;高文靜;鄭羽;李政穎;江山;郭會(huì)勇;徐一旻 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢烽理光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 代理人 孫方旭
地址 430070 湖北省武漢市洪山區(qū)珞獅路122號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種在線刻寫具有高旁瓣抑制比光柵的裝置和方法，該裝置包括準(zhǔn)分子激光器、整形透鏡組、聚焦透鏡、相位掩模板和漸變衰減片，漸變衰減片安裝在聚焦透鏡和相位掩模板之間，將曝光于光纖的光斑能量進(jìn)行有效調(diào)制，實(shí)現(xiàn)光斑沿光纖方向能量類似于高斯分布；漸變衰減片的上下寬度和漸變衰減系數(shù)根據(jù)聚焦光斑長(zhǎng)度和對(duì)應(yīng)光柵譜形進(jìn)行設(shè)計(jì)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)不同長(zhǎng)度的光柵的旁瓣抑制化處理。本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)在線制備具有高旁瓣抑制比的光柵陣列。