一種在線刻寫具有高旁瓣抑制比光柵的裝置和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010071566.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111208603B 公開（公告）日 2021-07-09
申請公布號 CN111208603B 申請公布日 2021-07-09
分類號 G02B6/02 分類 光學(xué);
發(fā)明人 余海湖;鄒慧茹;高文靜;鄭羽;李政穎;江山;郭會勇;徐一旻 申請（專利權(quán)）人 武漢烽理光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 代理人 孫方旭
地址 430070 湖北省武漢市洪山區(qū)珞獅路122號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種在線刻寫具有高旁瓣抑制比光柵的裝置和方法，該裝置包括準分子激光器、整形透鏡組、聚焦透鏡、相位掩模板和漸變衰減片，漸變衰減片安裝在聚焦透鏡和相位掩模板之間，將曝光于光纖的光斑能量進行有效調(diào)制，實現(xiàn)光斑沿光纖方向能量類似于高斯分布；漸變衰減片的上下寬度和漸變衰減系數(shù)根據(jù)聚焦光斑長度和對應(yīng)光柵譜形進行設(shè)計，可以實現(xiàn)對不同長度的光柵的旁瓣抑制化處理。本發(fā)明可以實現(xiàn)在線制備具有高旁瓣抑制比的光柵陣列。