消除大容量光柵陣列“鬼影”的方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110306316.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113064233A 公開（公告）日 2021-07-02
申請公布號 CN113064233A 申請公布日 2021-07-02
分類號 G02B6/02 分類 光學(xué);
發(fā)明人 李凱;徐一旻;宋珂;王月明;馬俊杰 申請（專利權(quán)）人 武漢烽理光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 代理人 許美紅
地址 430079 湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)武漢理工大學(xué)科技園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種消除大容量光柵陣列“鬼影”的光柵刻寫方法，在刻寫光柵陣列的過程中，改變?nèi)我鈨蓚€相鄰光柵之間的距離，使得相鄰間隔之差不為零。本發(fā)明可以有效消除大容量光柵陣列經(jīng)過多次反射后產(chǎn)生的“鬼影”現(xiàn)象。