一種往復(fù)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011622159.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112708867A 公開（公告）日 2021-04-27
申請公布號 CN112708867A 申請公布日 2021-04-27
分類號 C23C14/56;C23C14/24;C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 邵海平;劉莉云;曹英朝 申請（專利權(quán)）人 廣東諦思納為新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 蔣學(xué)超
地址 523846 廣東省東莞市長安鎮(zhèn)沙頭社區(qū)靖海西路99號B棟二樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種往復(fù)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法，包括第一存儲腔、鍍膜腔、第二存儲腔、真空泵組和傳送機(jī)構(gòu)，所述第一存儲腔通過所述鍍膜腔與所述第二存儲腔連通，所述傳送機(jī)構(gòu)依次穿過所述第一存儲腔、鍍膜腔和第二存儲腔，所述第一存儲腔的入口設(shè)有第一真空隔離閥，所述真空泵組分別與所述第一存儲腔和第二存儲腔連接。本發(fā)明的有益效果在于：提供了一種結(jié)構(gòu)合理，具有雙儲存腔的鍍膜設(shè)備，通過兩個儲存腔中的傳送機(jī)構(gòu)可將多片基片來回輸送，從而實(shí)現(xiàn)對基片進(jìn)行往復(fù)鍍膜，該鍍膜設(shè)備裝片量大，產(chǎn)能大，經(jīng)濟(jì)效益好，鍍膜過程中避免了多次抽真空導(dǎo)致浪費(fèi)時間，有效降低了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率，增加了企業(yè)的競爭力。