一種可控晶面取向的薄膜材料及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111055113.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113753847B | 公開（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113753847B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
| 分類號(hào) | B81C1/00（2006.01）I;B81B1/00（2006.01）I;B23K26/362（2014.01）I | 分類 | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 張良靜;王萌;薛金星;周滄濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳技術(shù)大學(xué) |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市君勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 518118廣東省深圳市坪山區(qū)石井街道蘭田路3002號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種可控晶面取向的薄膜材料及其制備方法，包括：將飛秒激光聚集在襯底上，在襯底表面加工出三維結(jié)構(gòu)陣列；將飛秒激光聚集在三維結(jié)構(gòu)陣列上，在襯底表面加工出三維超潤(rùn)濕模板陣列；將水溶性晶體顆粒滴加到三維超潤(rùn)濕模板陣列上，并對(duì)襯底進(jìn)行加熱處理，得到可控晶面取向的薄膜材料；其中，三維結(jié)構(gòu)陣列包括若干三維結(jié)構(gòu)，若干三維結(jié)構(gòu)的尺寸和形狀由水溶性晶體顆粒的尺寸和形狀確定。本發(fā)明通過三維超潤(rùn)濕模板陣列的超濕潤(rùn)性吸附水溶性晶體顆粒，并利用加工區(qū)域與未加工區(qū)域的表面能差異，對(duì)水溶性晶體顆粒的擴(kuò)散進(jìn)行限制，得到晶粒取向一致，尺寸大小均一的薄膜材料，薄膜生長(zhǎng)速度快，制備方法簡(jiǎn)單，制備過程不受材料和襯底約束。 |
