一種拋光溫度控制裝置、化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111247657.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113732936B 公開（公告）日 2022-07-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN113732936B 申請(qǐng)公布日 2022-07-15
分類號(hào) B24B37/015（2012.01）I;B24B37/10（2012.01）I;B24B37/30（2012.01）I;B24B37/20（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 路新春;鄭鵬杰;趙德文 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 華海清科股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100084北京市海淀區(qū)清華園1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種拋光溫度控制裝置、化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)和方法，所述拋光溫度控制裝置包括第一調(diào)溫機(jī)構(gòu)，其包括傳熱輥、安裝座和驅(qū)動(dòng)座，所述驅(qū)動(dòng)座設(shè)置于拋光設(shè)備的機(jī)臺(tái)板，所述安裝座設(shè)置于驅(qū)動(dòng)座，所述傳熱輥懸挑設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)座的一側(cè)，傳熱輥的外周側(cè)抵接于拋光墊的上側(cè)，旋轉(zhuǎn)的拋光墊驅(qū)動(dòng)傳熱輥繞其軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，以控制拋光墊及拋光液的溫度；第二調(diào)溫機(jī)構(gòu)，其設(shè)置于晶圓傳輸路徑中以對(duì)經(jīng)由的晶圓噴射流體，控制晶圓底面的溫度。