金屬膜厚測量方法、膜厚測量裝置和化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210206383.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114589617A | 公開(公告)日 | 2022-06-07 |
| 申請公布號(hào) | CN114589617A | 申請公布日 | 2022-06-07 |
| 分類號(hào) | B24B37/10;B24B37/013;B24B37/34;B24B49/10;B24B49/04 | 分類 | 磨削;拋光; |
| 發(fā)明人 | 王成鑫;王同慶;田芳鑫;侯映紅;路新春 | 申請(專利權(quán))人 | 華海清科股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100084 北京市海淀區(qū)清華園1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種金屬膜厚測量方法、膜厚測量裝置和化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備,方法包括:基于幅值法或相位法測量晶圓表面金屬薄膜的膜厚時(shí),計(jì)算幅值法或相位法對應(yīng)的極值點(diǎn);根據(jù)所述極值點(diǎn)、測量量程和/或測量靈敏度來調(diào)節(jié)激勵(lì)頻率,其中,所述測量量程為測量膜厚范圍,所述測量靈敏度為分辨率,所述激勵(lì)頻率為用于膜厚測量裝置的激勵(lì)信號(hào)的頻率。本發(fā)明利用極值點(diǎn),可以得到幅值法和相位法中最優(yōu)的測量量程和測量靈敏度。 |





