用于半導體電路的設備
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110770340.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113399358A | 公開(公告)日 | 2021-09-17 |
| 申請公布號 | CN113399358A | 申請公布日 | 2021-09-17 |
| 分類號 | B08B3/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 王敏;左安超;謝榮才 | 申請(專利權)人 | 廣東匯芯半導體有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市華勤知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 隆毅 |
| 地址 | 528000廣東省佛山市南海區(qū)丹灶鎮(zhèn)仙湖度假區(qū)養(yǎng)生路10號之一(住所申報) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開一種用于半導體電路的設備,該用于半導體電路的設備包括水洗裝置、溶劑清洗裝置和機械手,所述水洗裝置包括水洗槽和若干噴頭,所述水洗槽內(nèi)的半導體電路經(jīng)水洗后通過所述機械手搬運至所述溶劑清洗裝置內(nèi)進行溶劑清洗。本發(fā)明所提出的用于半導體電路的設備,在對半導體電路進行溶劑清洗前,先通過機械手將其搬運至水洗槽內(nèi),由噴頭對半導體電路進行噴淋清洗,水洗時半導體電路表面的各種雜質(zhì)顆粒以及水溶性極性離子會被有效清除,而后再對水洗后的半導體電路進行溶劑清洗,由于半導體電路表面的主要污染物基本被清除,因此可以大幅減少清洗劑的使用量,節(jié)省成本并減輕對環(huán)境的污染。 |





