一種電化學(xué)拋光裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911035459.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110670117A 公開(kāi)（公告）日 2020-01-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN110670117A 申請(qǐng)公布日 2020-01-10
分類(lèi)號(hào) C25F3/22（2006.01）; C25F7/00（2006.01） 分類(lèi) 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 范峰; 許寶霞; 蔡傳兵; 郭艷群; 豆文芝; 嚴(yán)云濤 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 上海上創(chuàng)超導(dǎo)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海浦東良風(fēng)專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 代理人 上海上創(chuàng)超導(dǎo)科技有限公司
地址 201400 上海市奉賢區(qū)望園路2066弄4號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種電化學(xué)拋光裝置及方法。主要解決現(xiàn)在拋光液利用率低、電流場(chǎng)不均勻等技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明電化學(xué)拋光裝置包括：橫向穿設(shè)于槽體的三個(gè)電解槽，槽體兩端封板設(shè)有金屬基帶入口和金屬基帶出口，三個(gè)電解槽由并排設(shè)置的兩組導(dǎo)流板腔分割而成，兩個(gè)導(dǎo)流板腔之間留有金屬基帶通道，金屬基帶入口、金屬基帶通道、金屬基帶出口在同一軸線(xiàn)上，導(dǎo)流板腔底部設(shè)有進(jìn)液口，導(dǎo)流板腔封板上設(shè)有流動(dòng)孔，導(dǎo)流板腔位于槽體側(cè)封板下部設(shè)有排液口，槽體兩端設(shè)有正電極，槽體中間側(cè)封板上設(shè)有負(fù)電極，金屬基帶橫向穿越槽體。本發(fā)明還公開(kāi)電化學(xué)拋光方法，包括：拋光液配方，金屬基帶預(yù)清洗，拋光工藝設(shè)計(jì)，后清洗等。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)低能耗高效率的金屬基帶拋光生產(chǎn)。