一種濺射鍍膜陰極系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201821531010.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN209227050U 公開(kāi)（公告）日 2019-08-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN209227050U 申請(qǐng)公布日 2019-08-09
分類(lèi)號(hào) C23C14/35 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王策;李先林;呂勇 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 華夏易能（海南）新能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中政聯(lián)科專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 華夏易能（海南）新能源科技有限公司
地址 570216 海南省?？谑心虾４蟮?68號(hào)?？诒６悈^(qū)管理委員會(huì)二樓213室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種濺射鍍膜陰極系統(tǒng)，包括：旋轉(zhuǎn)磁體、固定磁體和屏蔽罩；所述屏蔽罩一側(cè)設(shè)置有開(kāi)口，且所述旋轉(zhuǎn)磁體和所述固定磁體設(shè)置在所述屏蔽罩內(nèi)部。該系統(tǒng)可以消除靶材端部拐彎處刻蝕非常嚴(yán)重，而中部區(qū)域卻相對(duì)刻蝕較淺的現(xiàn)象，進(jìn)而提高靶材利用率；可以減少實(shí)際應(yīng)用中由于磁場(chǎng)分布的不均勻造成靶材的刻蝕區(qū)域的不均勻性問(wèn)題，從而提高靶材利用率；還可以提高鍍膜層均勻性，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量；還具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可靠性高、成本低等優(yōu)勢(shì)。