具有均勻性控制的等離子體剝離工具

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201880038239.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110731000B 公開(kāi)（公告）日 2022-06-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN110731000B 申請(qǐng)公布日 2022-06-03
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 馬紹銘;弗拉迪米爾·納戈?duì)柲?D·V·德塞;瑞安·M·帕庫(kù)爾斯基 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京易光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 美國(guó)加利福尼亞州
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 提供了具有處理均勻性控制的等離子體剝離工具。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，等離子體處理設(shè)備包括處理室。該設(shè)備包括在處理室中的第一基座，其可進(jìn)行操作以支撐工件。第一基座可以限定第一處理站。等離子體處理設(shè)備可以包括在處理室中的第二基座，其可進(jìn)行操作以支撐工件。第二基座可以限定第二處理站。該設(shè)備可以包括設(shè)置在第一處理站上方的第一等離子體室。第一等離子體室可以與第一感應(yīng)等離子體源相關(guān)聯(lián)。第一等離子體室可以通過(guò)第一分離格柵與處理室隔開(kāi)。該設(shè)備可以包括設(shè)置在第二處理站上方的第二等離子體室。第二等離子體室可以與第二感應(yīng)等離子體源相關(guān)聯(lián)。第二等離子體室可以通過(guò)第二分離格柵與處理室隔開(kāi)。