一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201410561585.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN105591206A | 公開(公告)日 | 2016-05-18 |
| 申請公布號 | CN105591206A | 申請公布日 | 2016-05-18 |
| 分類號 | H01Q15/14(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 薛長江;余川;孟凡寶;屈勁;徐剛;施美友;陳世韜 | 申請(專利權(quán))人 | 四川省科學城久利科技實業(yè)有限責任公司 |
| 代理機構(gòu) | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 中國工程物理研究院應用電子學研究所;中久安特裝備有限公司 |
| 地址 | 621000 四川省綿陽市919信箱1013分箱 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線,包括主反射面、副反射面、和饋源,所述饋源發(fā)射出的波束經(jīng)副反射面反射到主反射面后再射出;副反射面能在運動機構(gòu)上前后、上下、左右移動或者旋轉(zhuǎn)移動或者旋轉(zhuǎn);主反射面的曲面形狀為旋轉(zhuǎn)拋物面,主反射面的中心點位于副面出射中心軸線和輻射波束軸線交點處。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、加工成熟,提高了天線近場區(qū)軸線功率密度及作用距離范圍,同時可簡單快速在較大區(qū)域調(diào)節(jié)其最大功率密度位置,即在同樣輸入功率情況下,軸線最大功率密度得到大幅提高且位置可在較大區(qū)域調(diào)節(jié);使達到有效功率閾值的范圍增大。 |





