一種高潔凈度拋光片的制備工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111075148.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113808918A 公開（公告）日 2021-12-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN113808918A 申請(qǐng)公布日 2021-12-17
分類號(hào) H01L21/02（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張琪;代冰;胡碧波;李博;王鵬 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 萬華化學(xué)集團(tuán)電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 264006山東省煙臺(tái)市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)北京中路50號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種高潔凈度拋光片的制備工藝，包括如下步驟：在潔凈的待拋片背面均勻涂敷一層水溶性拋光蠟，將背面涂覆拋光蠟的待拋片貼敷在高溫陶瓷盤上，隨后進(jìn)行冷卻；對(duì)貼敷在陶瓷盤上的待拋片進(jìn)行拋光處理，分別經(jīng)歷粗拋光、一次精拋光、二次精拋光，得到拋光片；對(duì)拋光片用純水進(jìn)行去蠟清洗，去除拋光片背面的拋光蠟，得到潔凈的拋光片；對(duì)拋光片進(jìn)行最終清洗，得到高潔凈度的拋光片。利用本發(fā)明的制備工藝，最終得到的拋光片表面顆粒度可達(dá)到：＞65nm≤20顆，表面潔凈度高。