一種晶圓表面清潔裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111124005.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113560298B 公開（公告）日 2021-12-28
申請公布號 CN113560298B 申請公布日 2021-12-28
分類號 B08B11/00（2006.01）I;B08B5/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 許海漸;王海榮;王磊 申請（專利權(quán)）人 南通優(yōu)睿半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 226200江蘇省南通市啟東市南苑西路1188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種晶圓表面清潔裝置，涉及半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域，解決了目前用于晶圓的裝片設(shè)備其上芯過程中，并不具備相應(yīng)的清潔裝置，無法對晶圓表面由于環(huán)境及靜電吸附所造成的臟污及異物進(jìn)行有效清潔的問題。一種晶圓表面清潔裝置，包括清潔主體和氮?dú)廨斔凸艿溃銮鍧嵵黧w內(nèi)部開設(shè)有氮?dú)馀R時(shí)存儲(chǔ)腔，清潔主體外周面設(shè)置有與氮?dú)馀R時(shí)存儲(chǔ)腔相連通的氮?dú)饨涌?。本發(fā)明采用高壓氮?dú)鈱A表面進(jìn)行清潔，高壓氮?dú)馔ㄟ^氮?dú)廨斔凸艿兰暗獨(dú)饨涌谳斎胫恋獨(dú)馀R時(shí)存儲(chǔ)腔內(nèi)，并通過氮?dú)鈬娍讎姵?，對晶圓表面上沾污，異物進(jìn)行清潔，保證在晶圓裝片上芯前清潔干凈，從而減少臟污，異物帶來不利影響。