一種靜電裝置、其所在的基片處理系統(tǒng)及其置換清潔方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010960549.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114188205A 公開（公告）日 2022-03-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN114188205A 申請(qǐng)公布日 2022-03-15
分類號(hào) H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳狄;連增迪;陳煌琳;左濤濤;裴江濤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張妍;周乃鑫
地址 201201上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)（南區(qū)）泰華路188號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種靜電裝置、其所在的基片處理系統(tǒng)及其置換清潔方法，所述基片處理系統(tǒng)包含等離子體處理裝置、傳輸腔及靜電裝置，所述傳輸腔內(nèi)有傳輸機(jī)械手，所述靜電裝置用于產(chǎn)生吸附靜電以吸附所述等離子體處理裝置中的真空反應(yīng)腔中的邊緣環(huán)，并通過所述傳輸機(jī)械手將所述邊緣環(huán)移入或移出所述真空反應(yīng)腔，實(shí)現(xiàn)在不打開所述真空反應(yīng)腔的情況下置換所述邊緣環(huán)。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，極大地降低了基片處理系統(tǒng)的維護(hù)成本。