膜層厚度的確定方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910147257.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111623714A | 公開（公告）日 | 2020-09-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111623714A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-04 |
| 分類號(hào) | G01B11/06(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 朱偉;張繼凱;程曉龍;趙陽(yáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 漢瓦技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張琳琳 |
| 地址 | 510670 廣東省廣州市黃埔區(qū)科學(xué)大道111號(hào)附樓229房（僅限辦公） | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及膜層厚度的確定方法，該方法包括提供至少一個(gè)平面標(biāo)準(zhǔn)件；所述平面標(biāo)準(zhǔn)件包括至少一層鍍膜層，各所述鍍膜層與待測(cè)試件對(duì)應(yīng)的鍍膜層采用相同的鍍膜工藝形成；根據(jù)所述平面標(biāo)準(zhǔn)件的參數(shù)確定所述待測(cè)試件的每層鍍膜層的厚度，所述參數(shù)包括所述鍍膜層厚度及光學(xué)參數(shù)中一個(gè)。利用平面標(biāo)準(zhǔn)件作為待測(cè)試件每層鍍膜層的厚度的確定基準(zhǔn)，由于平面標(biāo)準(zhǔn)件與待測(cè)試件對(duì)應(yīng)的鍍膜層采用相同的鍍膜工藝且平面標(biāo)準(zhǔn)件的鍍膜層厚度或光學(xué)參數(shù)可以測(cè)定得到，通過平面標(biāo)準(zhǔn)件的鍍膜層厚度或光學(xué)參數(shù)就可以確定出待測(cè)試件的每層鍍膜層的厚度。即利用平面標(biāo)準(zhǔn)件的膜層厚度來(lái)反推待測(cè)試件的膜層厚度，達(dá)到質(zhì)量管控、品質(zhì)管理的目的。?? |
