一種內(nèi)窺成像裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120446749.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214539274U 公開（公告）日 2021-10-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN214539274U 申請(qǐng)公布日 2021-10-29
分類號(hào) G01N21/84（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 盧文龍;王靜怡;游霧;焦宇恒;邵兵;王鵬;劉曉軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢嚴(yán)格智能科技研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢東喻專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李佑宏
地址 430074湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種內(nèi)窺成像裝置，該裝置包括：照明光源、內(nèi)窺鏡主件、光纖束、顯微物鏡、套筒透鏡、成像面，內(nèi)窺鏡主件分別與照明光源以及光纖束連接，從內(nèi)窺鏡主件傳入顯微物鏡中的樣本光經(jīng)過套筒透鏡匯聚于成像面上，成像面遠(yuǎn)離套筒透鏡的一側(cè)設(shè)置有4f系統(tǒng)，4f系統(tǒng)包括第一透鏡、振幅型空間光調(diào)制器、第二透鏡，第一透鏡與振幅型空間光調(diào)制器之間設(shè)有起偏器，第二透鏡與振幅型空間光調(diào)制器之間設(shè)有檢偏器，振幅型空間光調(diào)制器在4f系統(tǒng)的傅里葉面上，第二透鏡遠(yuǎn)離檢偏器的一側(cè)設(shè)置有近紅外CMOS相機(jī)。本申請(qǐng)通過傅里葉透鏡組成的4f系統(tǒng)和振幅型空間光調(diào)制器來獲得與剪切干涉同樣效果的圖像，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使差分量可調(diào)的同時(shí)，降低了成本。