PECVD鍍膜設(shè)備的控制裝置和控制方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010175155.4 申請日 -
公開（公告）號 CN111286725B 公開（公告）日 2022-04-22
申請公布號 CN111286725B 申請公布日 2022-04-22
分類號 H01L21/31（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄧必龍;盧慧鵬 申請（專利權(quán)）人 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 孟金喆;潘登
地址 518000廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號創(chuàng)新廣場裙樓202
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種PECVD鍍膜設(shè)備的控制裝置和控制方法。該裝置包括控制電路；控制電路包括控制單元、數(shù)字量輸入模組、通信模組和數(shù)字量輸出模組；數(shù)字量輸入模組用于獲取PECVD鍍膜設(shè)備的數(shù)字狀態(tài)信號；控制單元與數(shù)字量輸入模組連接，用于根據(jù)數(shù)字狀態(tài)信號形成數(shù)字控制信號；數(shù)字量輸出模組與控制單元連接，用于根據(jù)數(shù)字控制信號調(diào)節(jié)PECVD鍍膜設(shè)備的運行狀態(tài)；控制單元通過通信模組與PECVD鍍膜設(shè)備的激發(fā)等離子動力源模組、腔室壓力調(diào)節(jié)和測量模組連接，控制單元根據(jù)配方參數(shù)控制激發(fā)等離子動力源模組和腔室壓力調(diào)節(jié)和測量模組的狀態(tài)調(diào)節(jié)PECVD鍍膜設(shè)備的運行狀態(tài)，提高了PECVD鍍膜設(shè)備的使用效率和控制精度。