一種化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111268590.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114000126A | 公開（公告）日 | 2022-02-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114000126A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-01 |
| 分類號(hào) | C23C16/509（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 鄭利勇;鄧必龍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 龍鱗（深圳）新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 518122廣東省深圳市坪山區(qū)錦繡東路22號(hào)A棟402 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置，包括腔室、水平位鍍膜組件、垂直位鍍膜組件、射頻饋入裝置及電源；水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件設(shè)置于腔室內(nèi)，且水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件并聯(lián)后與射頻饋入裝置連接，電源與射頻饋入裝置連接。以此結(jié)構(gòu)設(shè)置的化學(xué)氣相沉積防水鍍膜裝置，能夠通過射頻饋入裝置的切換，方便靈活的實(shí)現(xiàn)水平位鍍膜組件和垂直位鍍膜組件的單獨(dú)作業(yè)或混合組合，繼而滿足工件進(jìn)行化學(xué)氣相沉積時(shí)的多種工作需求，且操作方便，省時(shí)省力。 |
