一種氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202110075451.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112921306A | 公開(公告)日 | 2021-06-08 |
| 申請公布號 | CN112921306A | 申請公布日 | 2021-06-08 |
| 分類號 | C23C16/509;C23C16/458 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 鄧必龍;張向東 | 申請(專利權(quán))人 | 龍鱗(深圳)新材料科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 518000 廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道六聯(lián)社區(qū)坪山大道2007號創(chuàng)新廣場裙樓202 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種氣相沉積鍍膜系統(tǒng),其包括第一電極組件,沿豎直方向設(shè)置;多個第二電極組件,沿豎直方向設(shè)置,且多個所述第二電極組件繞所述第一電極組件的周向間隔設(shè)置;治具,設(shè)置在所述第一電極組件和所述第二電極組件之間,在所述治具上插設(shè)有與所述治具相垂直的托盤,所述托盤上用于盛放待鍍膜的工件;公轉(zhuǎn)組件,用于驅(qū)動所述治具繞所述第一電極組件的中心轉(zhuǎn)動;自轉(zhuǎn)組件,與所述治具傳動連接,用于驅(qū)動所述治具繞自身軸線轉(zhuǎn)動。本發(fā)明能夠保證成膜的均勻性,同時治具上的托盤便于拆裝。 |





