一種新型的光刻膠剝離液及其應(yīng)用工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201310276907.6 申請日 -
公開（公告）號 CN103336412B 公開（公告）日 2017-02-08
申請公布號 CN103336412B 申請公布日 2017-02-08
分類號 G03F7/42(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李冰;陳昕;羅杰·森特;李海波;于曉偉 申請（專利權(quán)）人 北京科華微電子材料有限公司
代理機構(gòu) 北京馳納智財知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 謝亮;趙德蘭
地址 101312 北京市順義區(qū)竺園路4號(天竺綜合保稅區(qū))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于去除基片上多余光刻膠的新型光刻膠剝離液。該剝離液包括用于溶解的有機溶劑，加快去膠速率的解交聯(lián)催化劑，以及避免基片腐蝕的防腐蝕保護劑。該光刻膠剝離液能夠縮短平常去膠周期，對人體和環(huán)境都沒有毒性，而且對于曝光后發(fā)生交聯(lián)的光刻膠，尤其是負性光刻膠，能夠徹底清除，以防止影響其后的使用性能。除此以外，本發(fā)明還提供了利用這種光刻機剝離液工藝過程，其中不需要加熱、振蕩等過程，從而能夠提高去膠速度，并且能夠避免輔助措施有可能對基片造成的破壞等。