一種共聚物、底層膠組合物、雙層體系及其在雙層剝離工藝中的應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110725188.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113234194A 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN113234194A 申請公布日 2021-08-10
分類號 C08F222/40（2006.01）I;C08F220/14（2006.01）I;C08F220/20（2006.01）I;C08F8/12（2006.01）I;C09J135/00（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 李杰;李冰;李海波;姚宇晨;陳昕;王文芳;董棟;張寧 申請（專利權(quán)）人 北京科華微電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 王麗莎
地址 101312北京市順義區(qū)竺園路4號（天竺綜合保稅區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N共聚物、底層膠組合物、雙層體系及其在雙層剝離工藝中的應(yīng)用。屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。共聚物由N取代馬來酰亞胺單體、溶解速率控制單體、丙烯酸酯疏水性單體和丙烯酸羥乙酯親水性單體聚合得到。本申請的共聚物不溶解于傳統(tǒng)光刻膠的溶劑，可以溶解于堿性溶液中，不溶于水，且具有較高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，并具有較好的化學(xué)穩(wěn)定性和抗刻蝕能力，能夠作為雙層剝離工藝的底層樹脂材料。雙層體系包括頂層光刻膠和共聚物形成的底層膠。雙層體系能夠用于雙層剝離工藝，且只需要單次顯影和單次顯影就可以得到目標(biāo)光刻圖案，大大提高光刻效率。