陰極保護(hù)Z型光陽極材料、離子層沉積制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210204820.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114686893A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114686893A 申請公布日 2022-07-01
分類號 C23F13/12（2006.01）I;C23F13/20（2006.01）I;C03C17/34（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張小影;程海洋;王曉晴;金祖權(quán);蔣全通;宋立英;唐恒;閆杰;蔣浩森;陳越華;周肇亮;于偲怡 申請（專利權(quán)）人 青島理工大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 北京五洲洋和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 266033山東省青島市市北區(qū)撫順路11號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于海洋建筑工程金屬緩蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陰極保護(hù)Z型光陽極材料、離子層沉積制備方法和應(yīng)用。本發(fā)明的陰極保護(hù)Z型光陽極材料的離子層沉積制備方法包括下述步驟：（1）導(dǎo)電玻璃預(yù)處理；（2）在經(jīng)步驟（1）預(yù)處理得到的導(dǎo)電玻璃表面離子層沉積得到Ce2S3層；（3）在Ce2S3層表面離子層沉積得到Bi2S3層。本發(fā)明的陰極保護(hù)Z型光陽極材料可有效解決或緩解現(xiàn)有技術(shù)中用于光電陰極保護(hù)的光陽極材料對海洋建筑工程中用到的金屬的防腐效果差的問題，可實(shí)現(xiàn)海洋工程結(jié)構(gòu)的高效光電陰極保護(hù)，提升海洋工程構(gòu)筑物的耐久性。