一種用于X光機(jī)高壓發(fā)生器的檢修方法及系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010179903.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111427290A | 公開（公告）日 | 2020-07-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111427290A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-17 |
| 分類號(hào) | G05B19/042;G01R31/00 | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 韋云青;馮銳;韋誼忠;杜萬(wàn)領(lǐng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 珠海市睿影科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 珠海市睿影科技有限公司 |
| 地址 | 519000 廣東省珠海市高新區(qū)唐家灣鎮(zhèn)創(chuàng)新海岸科技五路18號(hào)研發(fā)、生產(chǎn)樓A棟2樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種用于X光機(jī)高壓發(fā)生器的檢修方法及系統(tǒng)，其中方法包括：S1、接收第一客戶端提供的遠(yuǎn)程權(quán)限，連接第一客戶端；S2、第一客戶端根據(jù)指令設(shè)置需要采集的高壓發(fā)生器的測(cè)試點(diǎn)、采集的頻率和采集通道；S3、第一客戶端根據(jù)指令控制高壓發(fā)生器進(jìn)行曝光并控制MCU采集測(cè)試點(diǎn)的信號(hào)；S4、第一客戶端根據(jù)指令接收MCU采集的采樣數(shù)據(jù)后，將采樣數(shù)據(jù)顯示成波形；S5、根據(jù)波形判斷當(dāng)前測(cè)試點(diǎn)的異常情況，判定故障原因。其中系統(tǒng)包括：連接模塊；采集模塊，包括MCU；控制模塊；顯示模塊；判斷模塊。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了通過遠(yuǎn)程的方式，控制發(fā)生器工作，然后通過采集功能，將異常點(diǎn)采集并顯示出來(lái)，技術(shù)人員可以在遠(yuǎn)程判斷出故障點(diǎn)，方便了維護(hù)和檢修。 |
