半導體激光器及其制作方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610363086.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN106785912B | 公開(公告)日 | 2020-04-10 |
| 申請公布號 | CN106785912B | 申請公布日 | 2020-04-10 |
| 分類號 | H01S5/30;H01S5/34 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 程洋;劉建平;田愛琴;馮美鑫;張峰;張書明;李德堯;張立群;楊輝 | 申請(專利權)人 | 杭州增益光電科技有限公司 |
| 代理機構 | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 | 代理人 | 孫偉峰 |
| 地址 | 310026 浙江省杭州經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)白楊街道21號大街600號2幢110室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導體激光器,其包括襯底以及在所述襯底上依次疊層設置的下限制層、下波導層、量子阱有源區(qū)、上波導層以及上限制層;該半導體激光器還包括夾設于所述下波導層與所述量子阱有源區(qū)之間的空穴阻擋層。根據(jù)本發(fā)明的半導體激光器通過在下波導層與量子阱有源區(qū)之間制備空穴阻擋層,從而有效阻擋了空穴從量子阱有源區(qū)向下波導層、下限制層的N型區(qū)一側泄露,提高了載流子的注入效率,從而提升了該半導體激光器的性能。本發(fā)明還公開了上述半導體激光器的制作方法。 |





