基于復(fù)合介質(zhì)柵的雙器件光敏探測單元、探測器及其方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610592997.3 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN107658321B | 公開(公告)日 | 2019-12-27 |
| 申請公布號 | CN107658321B | 申請公布日 | 2019-12-27 |
| 分類號 | H01L27/146 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 馬浩文;閆鋒;卜曉峰;沈忱;張麗敏;楊程;毛成 | 申請(專利權(quán))人 | 南京吉相傳感成像技術(shù)研究院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 江蘇法德東恒律師事務(wù)所 | 代理人 | 南京威派視半導(dǎo)體技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 211135 江蘇省南京市江寧區(qū)麒麟科技創(chuàng)新園智匯路300號B單元二樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于復(fù)合介質(zhì)柵的雙器件光敏探測單元、探測器及其方法。其中,光敏探測單元包括復(fù)合介質(zhì)柵MOS?C部分和復(fù)合介質(zhì)柵MOSFET部分,這兩部分形成在同一P型半導(dǎo)體襯底的上方,并共用電荷耦合層。多個上述光敏探測單元在同一P型半導(dǎo)體襯底上排成陣列形成探測器,探測器中相鄰單元像素之間通過深槽隔離區(qū)以及隔離區(qū)下方的P+型注入?yún)^(qū)來實現(xiàn)隔離。探測時,復(fù)合介質(zhì)柵MOS?C部分的P型半導(dǎo)體襯底感光,然后將光電子耦合到電荷耦合層,光電子信號通過復(fù)合介質(zhì)柵MOSFET部分進(jìn)行讀取。本發(fā)明可以很好地實現(xiàn)光信號的探測,具有較好的弱光響應(yīng)和線性度,同時沒有明顯的飽和現(xiàn)象,有比較大的動態(tài)范圍和比較高的量子效率。 |





