一種防污膜鍍膜裝置及鍍膜方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210452597.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN114622169A | 公開(公告)日 | 2022-06-14 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114622169A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-14 |
| 分類號(hào) | C23C14/30(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 崔戶丹;王鵬濤;張景濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 華天慧創(chuàng)科技(西安)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 710018陜西省西安市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)鳳城五路123號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明屬于光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種防污膜鍍膜裝置及鍍膜方法,包括腔體,腔體內(nèi)部設(shè)有坩堝、石墨盒和加熱裝置;坩堝內(nèi)設(shè)有凹槽,凹槽內(nèi)設(shè)有石墨盒;石墨盒內(nèi)設(shè)有防污膜藥丸,石墨盒頂部設(shè)有出氣孔;坩堝外部設(shè)有加熱裝置。具體包括以下步驟:將防污膜藥丸放置在石墨盒中;將石墨盒放在坩堝的凹槽中;將裝有石墨盒的坩堝進(jìn)行真空處理;通過加熱裝置加熱石墨盒,石墨盒受熱使防污膜藥丸上的防污膜藥液從出氣孔中蒸發(fā)出來,從而將防污膜鍍到產(chǎn)品上。本發(fā)明通過石墨盒和上方設(shè)置的出氣孔,同時(shí)通過加熱石墨盒間接加熱內(nèi)部的防污膜藥丸,可以使防污膜藥水均勻穩(wěn)定排出,防污膜藥丸利用率更高。 |





