一種活性納米級(jí)單晶二氧化硅

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310260665.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103804958A 公開(kāi)（公告）日 2014-05-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN103804958A 申請(qǐng)公布日 2014-05-21
分類號(hào) C09C1/28(2006.01)I;C09C3/04(2006.01)I;C09C3/06(2006.01)I;C09C3/08(2006.01)I;C09C3/10(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K9/02(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 許榮 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海那博新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申匯專利代理有限公司 代理人 金碎平
地址 201822 上海市嘉定區(qū)尚學(xué)路225、229號(hào)3幢5027室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種活性納米級(jí)單晶二氧化硅，其特征在于，單晶二氧化硅的加工過(guò)程為：1）粗曠篩選，水性環(huán)境，水洗、酸洗、中和處理PH值控制在4～10，去處礦石表面雜質(zhì)單晶粗粉碎，2）干式粉碎，線速度6m/s～25m/s,空氣壓力2～18公斤；3）單晶分級(jí)工藝，干式分級(jí)單晶精研磨工藝；4）濕法粉碎，中性水性環(huán)境，不破壞單晶形貌的條件下進(jìn)行分散處理納米級(jí)研磨，對(duì)顆粒進(jìn)行最終細(xì)度加工，使其達(dá)到納米級(jí)10～800納米，使其比表面積最大化，以達(dá)到易分散效果納米級(jí)顆粒成型加工，最終顆粒外形處理拋光，使其表面活性更大，更易于橡膠結(jié)合成型；5）納米表面加工，納米活性處理，液體加工成粉體。