一種鍍膜機(jī)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010053715.9 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111235544A | 公開（公告）日 | 2020-06-05 |
| 申請公布號(hào) | CN111235544A | 申請公布日 | 2020-06-05 |
| 分類號(hào) | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 彭建林;諸葛挺 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳市博能自動(dòng)化設(shè)備有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳眾鼎匯成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 深圳市博能自動(dòng)化設(shè)備有限公司 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市坪山區(qū)坪山街道金田路294-2號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種鍍膜機(jī)，包括真空腔體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、鍍膜輥系機(jī)構(gòu)和鍍膜機(jī)構(gòu)，在第一鍍膜冷卻輥位于第一靶位且第二鍍膜冷卻輥位于第二靶位時(shí)，第二收放卷件釋放的基材依次纏繞在第二鍍膜冷卻輥以及第一鍍膜冷卻輥上，再由第一收放卷件進(jìn)行收卷；在回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)第一鍍膜冷卻輥旋轉(zhuǎn)至第二靶位時(shí)，第一收放卷件釋放的基材依次纏繞在第一鍍膜冷卻輥以及第二鍍膜冷卻輥上，再由第二收放卷件進(jìn)行收卷。本發(fā)明提供的鍍膜機(jī)，基材的正面鍍上第一鍍膜部件和第二鍍膜部件上的靶材，基材的反面也鍍上第一鍍膜部件和第二鍍膜部件上的靶材，在不需要打開真空腔體就能夠?qū)崿F(xiàn)單腔體鍍膜機(jī)的基材的雙面上同時(shí)鍍上不同的材料且能減少耗時(shí)。?? |
