化學(xué)氣相沉積裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210396302.6 申請日 -
公開（公告）號 CN103774115B 公開（公告）日 2017-12-29
申請公布號 CN103774115B 申請公布日 2017-12-29
分類號 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宋濤;薩爾瓦多;奚明;馬悅;黃占超;劉強(qiáng) 申請（專利權(quán)）人 理想能源設(shè)備（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京潤澤恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 理想能源設(shè)備（上海）有限公司;理想晶延半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司;理想晶延半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科園區(qū)居里路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種化學(xué)氣相沉積裝置。所述化學(xué)氣相沉積裝置包括反應(yīng)腔、位于反應(yīng)腔頂部的噴淋組件以及與所述噴淋組件相對設(shè)置的基座，所述基座可以相對所述噴淋組件旋轉(zhuǎn)，所述噴淋組件包括第一進(jìn)氣管路以及第二進(jìn)氣管路，用于分別將第一氣體以及第二氣體傳輸?shù)綒怏w分配板，所述氣體分配板具有面向所述基座的排氣面，所述排氣面具有若干凹槽，用以收容氣體并安裝板部件，所述板部件具有若干出氣孔，所述出氣孔排列成若干列，所述若干列中至少有兩列的出氣孔排列位置部分錯開，所述出氣孔用以排出所述第一氣體或第二氣體中的一種或多種。本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置結(jié)構(gòu)簡單，制造成本較低，且易于拆分清潔。