基板校準方法與裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201410629052.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN105575868B | 公開(公告)日 | 2018-12-07 |
| 申請公布號 | CN105575868B | 申請公布日 | 2018-12-07 |
| 分類號 | H01L21/68 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 徐升東 | 申請(專利權(quán))人 | 理想能源設(shè)備(上海)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海恒銳佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 上海理想萬里暉薄膜設(shè)備有限公司 |
| 地址 | 201620 上海市松江區(qū)思賢路3255號3幢403室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明的基板校準裝置用于校準薄膜沉積進出片腔中的基板,所述進出片腔具有頂部、底部、頂部與底部之間的側(cè)壁及位于底部正上方用以承載基板的升降裝置,所述底部正下方設(shè)置有用以升降所述升降裝置的動力裝置,所述頂部設(shè)置有基板校準裝置,所述基板校準裝置包括驅(qū)動機構(gòu)、傳動機構(gòu)、導(dǎo)向桿,所述驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動傳動機構(gòu)運動,所述導(dǎo)向桿臨近所述傳動機構(gòu)的一端設(shè)置有滾輪裝置,所述導(dǎo)向桿遠離所述傳動機構(gòu)的一端設(shè)置有校準機構(gòu),所述滾輪裝置隨著所述傳動機構(gòu)的運動而運動,進而帶動所述校準機構(gòu)隨著所述傳動機構(gòu)的運動而在導(dǎo)向桿上移動。本發(fā)明的基板校準機構(gòu)可移動的對失準基板不同的方向同時驅(qū)使基板至預(yù)定基準位置,壓力小,基板不易損壞。 |





