一種光刻膠模型的建立方法及電子設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011255892.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112364508A | 公開（公告）日 | 2021-02-12 |
| 申請公布號 | CN112364508A | 申請公布日 | 2021-02-12 |
| 分類號 | G06F30/20(2020.01)I; | 分類 | 計算；推算；計數(shù); |
| 發(fā)明人 | 高世嘉;邵相軍 | 申請（專利權(quán)）人 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 羅芬梅 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福田保稅區(qū)英達利科技數(shù)碼園C座301F室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠模型的建立方法及電子設(shè)備，S1、提供掩模設(shè)計版圖及電鏡掃描圖像，掩模設(shè)計版圖包括至少一掩模圖像，電鏡掃描圖像包括至少一掃描圖案，將至少一掃描圖案與至少一掩模圖像對準以獲得至少一對準掃描圖案；S2、識別所述至少一對準掃描圖案的外邊界或者內(nèi)邊界；S3、至少提取至少一對準掃描圖案的外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息以形成數(shù)據(jù)集；及S4、基于數(shù)據(jù)集建立光刻膠模型。提取外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息以形成數(shù)據(jù)集，其數(shù)據(jù)是較容易獲得以及數(shù)量是相對較多的，使得形成的數(shù)據(jù)集更好的用于模型的建立，同時，外邊界或者內(nèi)邊界的位置信息是單點數(shù)據(jù)，是絕對位置信息，能更加精確的建立光刻膠模型。?? |
