一種用于單片濕處理制程的槽式工藝系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122226073.0 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN215965212U 公開（公告）日 2022-03-08
申請公布號(hào) CN215965212U 申請公布日 2022-03-08
分類號(hào) B08B3/12（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 史蒂文·賀·汪;劉立安;王亦天;吳儀 申請（專利權(quán)）人 新陽硅密（上海）半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市盈科律師事務(wù)所 代理人 陳晨;申晨
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種用于單片濕處理制程的槽式工藝系統(tǒng)，其中，用于單片濕處理制程的槽式工藝系統(tǒng)包括清洗槽、基片夾具以及驅(qū)動(dòng)裝置，基片夾具與驅(qū)動(dòng)裝置連接；清洗槽內(nèi)注入有工藝液體；基片夾具用于夾持基片，基片可在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下浸入清洗槽的工藝液體內(nèi)以進(jìn)行濕處理工藝。本實(shí)用新型提供的用于單片濕處理制程的槽式工藝系統(tǒng)，基片夾具一次僅夾持一個(gè)基片，該基片在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下浸入工藝液體，一方面避免了基片間交叉感染的風(fēng)險(xiǎn)，另一方面也確保了基片與工藝液體的充分、均勻接觸，提高了清洗效果。