一種用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122226003.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215940848U 公開（公告）日 2022-03-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN215940848U 申請(qǐng)公布日 2022-03-04
分類號(hào) B08B3/04（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 史蒂文·賀·汪;劉立安;王亦天;王錚 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 新陽硅密（上海）半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市盈科律師事務(wù)所 代理人 陳晨;申晨
地址 201616上海市松江區(qū)思賢路3600號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設(shè)備，包括處理槽、晶圓夾具以及驅(qū)動(dòng)裝置；處理槽內(nèi)注入有工藝液體；晶圓夾具用于夾持晶圓片，晶圓夾具可在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)晶圓片浸入處理槽的工藝液體內(nèi)；晶圓片可在驅(qū)動(dòng)裝置的控制下擺動(dòng)至與工藝液體液面呈角度并旋轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型提供的用于單片浸入式濕處理工藝的表面排氣設(shè)備，利用工藝液體的粘度，通過晶圓片的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)工藝液體充滿內(nèi)凹區(qū)，并通過晶圓片擺動(dòng)至與工藝液體液面呈一定角度達(dá)到向上排氣的效果，確保了晶圓片與工藝液體的充分、均勻接觸，提升了工藝質(zhì)量。