干摩擦式雙片離合器總成

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121436027.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215673272U 公開（公告）日 2022-01-28
申請公布號 CN215673272U 申請公布日 2022-01-28
分類號 F16D13/70（2006.01）I;F16D13/58（2006.01）I 分類 工程元件或部件；為產生和保持機器或設備的有效運行的一般措施；一般絕熱;
發(fā)明人 李仁元;陳海峰;張波;李文飛 申請（專利權）人 湖北三環(huán)離合器有限公司
代理機構 湖北維智聯科知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 陳鴻偉
地址 435000湖北省黃石市開發(fā)區(qū)·鐵山區(qū)金山街辦圣水路18-1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種干摩擦式雙片離合器總成，包括離合器壓盤總成、上壓盤、中間壓盤、第一從動盤總成、第二從動盤總成和若干個限位機構；第一從動盤總成和第二從動盤總成分別設置在中間壓盤的軸向兩側端面上；限位機構包括第一彈性部、第二彈性部和第三彈性部；第一彈性部設置在離合器壓盤總成和上壓盤之間；第二彈性部設置在上壓盤和中間壓盤之間，第三彈性部設置在中間壓盤與第二從動盤總成之間。本實用新型提供的干摩擦式雙片離合器總成通過具有彈力特性的限位機構，在雙片離合器的周圍形成輔助彈性分離結構，利用彈性力度合適的限位機構對雙片離合器中的部件進行限位，解決換擋慢和使用壽命受不利影響的問題。